PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料。