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5L光學玻璃等離子清洗方案是一種小型化、非破壞性的清洗設備。100瓦/150瓦 5L等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

300W 5L等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。300瓦 5L等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

5L真空等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。5L等離子清洗機 500W/1000W采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

10L半導體等離子清洗設備是一種小型化、非破壞性的清洗設備。100瓦/150瓦 10L等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

10L半導體等離子清洗設備是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。300瓦 10L等離子清洗機配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

10L真空等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。10L等離子清洗機 500W/1000W配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。